解析高溫坩堝的工藝特點

　　現在高溫坩堝的使用還是比較廣泛的，應用的時候我們可以按照一些相應的工藝特點，去使用它們，對于一些工藝特點，我們在進行了解之后，對于它的使用效率就會大大提高，所以，在使用之前需要我們去了解一下相應的工藝特點，下面我們就來具體說一下，它的工藝特點是什么？下面就是具體的一些介紹。
　　1、現代拉單晶的高溫坩堝，一般是采用電弧法生產，半透明狀，是拉制大直徑單晶硅，發展大規模集成電路必不可少的基礎材料。
　　2、現代的高溫坩堝，會存在二種結構，分為外側和內側。其中外側是一層具有高氣泡密度的區域，稱為氣泡復合層，內側則是一層3~5mm的透明層，稱之為氣泡空乏層。
　　3、氣泡復合層的目的，是在與均勻的輻射有加熱器所提供的輻射熱源。
　　以上也具體講述了有關于高溫坩堝的一些工藝特點的一些相關介紹，知道了這些，我們以后使用它來進行實驗操作的時候，能夠通過一定的工藝特點，來使用它們。在一些應用之中，也會利用好一些相關的工藝特點，應用，實驗。在使用之前對于產品的一些工藝特點的了解還是比較好的。